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ALD 包覆改性方案

ALD 包覆改性方案

简要描述:PANDORA 是高度集成的台式原子层沉积系统,可摆放在实验室的任意角落,采用旋转式反应腔实现对粉末材料的分散,有更高的兼容性。对于平面样品,则可快速插入平面反应台,实现样品的切换。PANDORA 高度集成的特点提高了使用效率,使用者甚至在安装的第一天便可以开始 ALD 实验。【ALD 包覆改性方案】

产物型号: PANDORA

所属分类:础尝顿包覆改性方案

更新时间:2024-09-20

厂商性质:其他

详情介绍
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PANDORA 多功能台式原子层沉积系统【ALD 包覆改性方案

 

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很多人相信,潘多拉的魔盒还埋藏着尚未开发的宝物&尘诲补蝉丑;&尘诲补蝉丑;希望!

 

正是基于对于新技术应用的美好愿景,Forge Nano 开发了 PANDORA 台式原子层沉积系统, 这一工具巧妙地将粉末原子层沉积技术和平面原子层沉积薄膜技术结合。使用者可轻易地在粉末与平面样品之间切换,而不用担心影响研究效率。

 

 

产物规格【ALD 包覆改性方案

1. 前驱体通道:2-6

2. 连续流 / 静态流兼容

3. 反应腔:100ml 粉末腔 / 10×10cm 平面

4. 反应腔结构:旋转式

5. 反应腔温度:最高 200℃

6. 配件:In-situ QCM,等离子发生器,臭氧发生器,在线式气体分析系统,冲压辅助装置

7. 支持样品:粉末,纤维,平面样,器件,药物

 

产物特点

PANDORA 是高度集成的台式原子层沉积系统,可摆放在实验室的任意角落,采用旋转式反应腔实现对粉末材料的分散,有更高的兼容性。对于平面样品,则可快速插入平面反应台,实现样品的切换。PANDORA 高度集成的特点提高了使用效率,使用者甚至在安装的第一天便可以开始 ALD 实验。

 

实时监测

PANDORA 也配备了在线分析系统,可以对前驱体与副产物进行实时监测,从而进行沉积工艺改良。

 

In-situ QCM

ALD 是微量的沉积方式,故常规手段无法测量薄膜的质量,因此 PANDORA 采用石英微天平可以实时监测材料的质量变化,帮助研究者获得更高质量的薄膜。

 

反应观察窗

研究者可通过窗口实时观察粉末在腔室中的运转情况

 

符合 cGMP 要求

PANDORA 可以应用于药物的表面改性及包覆,从而提升药物的物理及化学性能。


应用

对于学术研究,液相法是进行粉末表面包覆改性的重要方法,但对于大多数研究者而言,寻找合适的工艺以及普适性较高的方案是费时耗力的工作,且液相法会造成大量的原料浪费,同时并不能实现*均匀的包覆。包覆层会出现较多的缺陷或颗粒团聚,影响材料最终的性能。而对于敏感性较高的材料,如锂电电极粉末,液相法可能对材料性能产生不可逆的影响。

 

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ALD 是自限制性的薄膜沉积技术,可以在粉末材料表面形成均匀的包覆,即便是孔隙率高的多孔结构,ALD 也有较好的均一性。

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